h2、n2、o2、cf4和ar是常見的幾種等離子設備的氣源：
我們常用的工作氣體有氫氣（h2），氮氣（n2），氧氣（o2），氬氣（ar），甲烷（cf4)等等。金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧樹脂，甚至聚四氟乙烯，在等離子設備的過程中都很容易處理。當然，我們很容易想到：去除零件上的油，去除手表上的拋光膏，去除電路板上的膠渣，去除dvd上面的水。不過，超聲波清洗機往往用作去除油污和除銹。超聲波清洗機波清洗機使用清洗設備。水中將添加不同的清洗劑油污以去除不同油污。這需要取決于實際情況。如果去除電路板上的膠渣，則需要使用等離子蝕刻機。該設備具有一定的技術含量，一般小工廠無法制造。
實際上等離子設備的作用不是清洗油污，而是對物體表面進行改性，增強物體表面的附著力。玻璃、硅膠、塑料等多種材料的聚合物材料，如果直接噴涂電鍍，粘接效果很差。如果用等離子設備清洗物體表面，對物體表面進行改性，其附著力會有很大的提升。
“清洗表面”是等離子體清洗機技術的核心，這也是許多企業選擇等離子體清洗機的重點。“清洗表面”它與電漿機和等離子設備表面處理設備密不可分。簡單地說，清潔表面是在被處理材料的表面產生無數肉眼看不到的孔，并在表面產生一個新的氧化層膜。這大大增加了被處理材料的表面積，間接增加了材料表面的附著力、相容性、滲透性、擴散性等。這些性能適當應用于手機、電視、微電子、半導體、醫療、航空、汽車等行業，為許多企業解決多年未解決的問題。

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