日本沙磨理工thermo roki紅外線真空加熱爐
只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線精que定位,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。
它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
這是thermo riko的主要型號。
快速升溫 :gao升溫速度150℃/秒,gao1500℃約1min
清潔加熱 :不用擔心熱源或電磁感應產(chǎn)生的氣體
局部供暖 :僅用紅外線照射樣品,請勿加熱周圍環(huán)境
可自由安裝 :可以連接到各種真空系統(tǒng)(icf70)
si和sic石墨烯等樣品的高速升溫和退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮氣中加熱基材
在x射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,xps,xrd,pld等。
在磁場中加熱,在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
超高真空型gvh
型號名稱 gvh198 gvh298
紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
gao溫度 1200℃ 1400℃
受熱面 φ20毫米
大加熱速度 1℃/秒
大極限真空 5×10-9帕
冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
高速升溫型gv / gvl
型號名稱 gv154 gv198 gvl298 gvl398
紅外燈額定值 500瓦 1千瓦 2千瓦 3千瓦
gao溫度 1100℃ 1300℃ 1500℃ 1600℃
受熱面 φ14毫米 φ20毫米
大加熱速度 100℃/秒 100-150℃/秒
大極限真空 5×10-7帕
冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
加壓氣氛類型gvp
型號名稱 gvp198 gvp298
紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
gao溫度 1200℃ 1300℃
受熱面 φ20毫米
大加熱速度 100℃/秒
大耐壓 1mpa以下
冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
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