hellma材料caf2多年來一直被用作半導體生產的光刻中的光學關鍵材料。caf2被確立為投影和照明光學中準分子激光光學的工業標準材料。caf2的光學特性使其能夠用于各種先進的應用。
應用程序
hellma materials caf2由于其的光學質量和在uv、vis和ir光譜范圍內的優異透射率，可用于多種用途：
紅外光學
天文儀器光學
天基光學
顯微鏡光學
光譜學
紫外線光學
激光窗口
準分子激光光學
微光刻光學
優點
hellma materials的lithtec®caf2具有的光學特性：
從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm到8µm）
低折射率（nd=1.43384）
低光譜色散（vd=95.23）
excimer激光光學器件的激光耐久性（157nm、193nm、248nm）
合格的高能粒子和輻射抗性
直徑可達420mmhellma材料caf2多年來一直被用作半導體生產的光刻中的光學關鍵材料。caf2被確立為投影和照明光學中準分子激光光學的工業標準材料。caf2的光學特性使其能夠用于各種先進的應用。
應用程序
hellma materials caf2由于其的光學質量和在uv、vis和ir光譜范圍內的優異透射率，可用于多種用途：

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