隨著半導(dǎo)體器件輕薄短小的發(fā)展趨勢(shì)以及器件集成度的增加，我們對(duì)半導(dǎo)體元器件的要求也越來(lái)越高，不但體積要有所縮小，精準(zhǔn)度的要求也是在不斷提高，這將對(duì)半導(dǎo)體元器件在切割工藝上提出了更高的要求。因此，半導(dǎo)體的切割加工工藝也在不斷完善，如何減少切割時(shí)對(duì)半導(dǎo)體邊緣崩裂的風(fēng)險(xiǎn)，以及減少?gòu)U料的產(chǎn)生，提高生產(chǎn)效益成為半導(dǎo)體新型加工工藝的主要方向。下面我們來(lái)了解下半導(dǎo)體晶圓的線切割工藝特點(diǎn)：
1、切割效率高，降低了切割成本，對(duì)于高精度要求的半導(dǎo)體晶圓來(lái)講，減少切割損耗就是降低了切割成本；
2、單片切割成本低，一種金鋼線替代了傳統(tǒng)砂漿切割的碳化硅、懸浮液、鋼線，極大地降低了耗材成本；
3、品質(zhì)受控，切割效果與金剛砂線的品質(zhì)有很大的關(guān)系，選擇一家高質(zhì)量的砂線廠家，就可以在供應(yīng)商的數(shù)量與質(zhì)量上有很好的控制，確保切割出來(lái)的效果；損耗降低，因以固結(jié)的方式可以參與有效切割的金剛石較多，鍍層要比砂漿的混合體要小，刀縫損失也更少，生產(chǎn)加工過(guò)程成本的降低；
4、環(huán)保，在現(xiàn)中國(guó)的時(shí)代，工廠對(duì)于環(huán)保的認(rèn)知還是太低了，砂漿的 cod達(dá)到幾十萬(wàn)，而金鋼線切割液經(jīng)過(guò)純水稀釋加切割液 cod在 200-1000，對(duì)于污水的處理也將大大提升。
當(dāng)然，目前半導(dǎo)體晶圓的切割工藝有好多種，針對(duì)不同的切割對(duì)象，選擇適用的切割方式，不僅有助于提供切割速率，而且有利于減少甚至消除芯片邊緣的微損耗，提高芯片的斷裂強(qiáng)度，從而提高產(chǎn)品的可靠性。

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