環(huán)保電離子納米拋光設備ecmc1000150
東莞市榮迅自動化設備有限公司開發(fā)出的全自動環(huán)保電離子納米拋光設備ecmc1000150是根據電化學原理與電離子體反應原理而研發(fā)的，專門解決不銹鋼、鈦材、鋁鎂合金、鋁制品、鈦合金及各種低碳導電材質由沖壓造成的毛邊，處理工件表面及死角，能夠使霧面工件表面達到鏡面效果。
環(huán)保電離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝綜合了電漿拋光、電化學拋光及ecd電化學去毛刺原理，且配套了我司自主研發(fā)的節(jié)能型電源——僅在工件表面的分子層與電離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內，因此電離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學物質。本公司進一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進一步降低，使拋光效果進一步優(yōu)化。
此方法是將待拋光工件浸入加熱的中性鹽水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價，所施加的電壓為200-400v，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導電材料。在適當的工作條件下，工件表面會出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質水溶液隔開，從而導致表面與電解液蒸氣之間產生強烈的電離子體化學和電化學反應，使被處理表面產生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現(xiàn)拋光效果，其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當氧化層zui薄且又足以抵御侵蝕作用時，其反射率出現(xiàn)zui高值。微觀不平處的氧化層zui薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產生很高的電場強度，這種強度也在微觀不平處得到強化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達到拋光效果。
與傳統(tǒng)拋光工藝相比，環(huán)保電離子電漿、環(huán)保電離子納米拋光工藝的優(yōu)勢主要表現(xiàn)在：
1、為客戶減輕環(huán)保壓力。本公司所使用的拋光液非常環(huán)保，在其廢液可以直接排放而不會造成污染，也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費用低，有利于推廣，并且對加工環(huán)境無污染，適應綠色制造的發(fā)展方向。　
2、降低客戶生產成本。半自動、全自動環(huán)保電離子電漿、電離子納米拋光設備采用自動化控制，操作簡單，維護方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。
3、為客戶提高生產效率。半自動、全自動環(huán)保電離子電漿、環(huán)保電離子納米拋光設備通過藥劑可在十幾秒到幾分鐘內達到電鍍鏡面效果，大大提高了生產效率。
4、拋光效果好，提升客戶產品品質。利用半自動、拋光出的產品具有高品質，而且可以對一些人工不可能拋光的精密工件加以拋光。其精度控制*,尺寸影響小,通常可控制在0.1微米/分鐘,拋光均勻，使整個工件表面和死角部位都可以達到一致的鏡面效果。增強拋光面的抗腐蝕性能，拋光過程中使工件表面產生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。高純度，有效減小對電子類產品的沾污。拋光后產品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、精密度提高、堅硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數下降、磨損減少等。拋光方法特性比較（見附表）
5、我司自主研發(fā)的節(jié)能型電源，

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