隨著藥機設備行業高新技術的發展，以及交叉領域新技術滲入*的原理、機構、控制方法及檢測手段的應用，國內制藥設備的功能得以不斷充實和完善。
與此同時，藥品生產對設備的要求也越來越苛刻，常規的設計已不能滿足制藥中潔浄、清洗、無污染的要求。而在藥物生產和清洗的有關設備中,其結構要素是很主要的方面。因而必須考慮改進或增加制藥生產所需的結構設計。具體可以表現在以下幾個方面：
利于物料流動、移位及清洗
*，制藥設備幾乎都與藥物有直接、間接的接觸，而粉體、液體、顆粒、膏體等性狀多樣。因此，在藥物制備中，其設備的結構應有利于上述物料的流動、移位、反應、交換及清洗等。
實踐證明，設備內的凸凹、槽、臺棱角等不利物料清除及清洗,因此要求這些部位的結構要素應盡可能采用大的圓角斜面、錐角等,以免掛帶和阻滯物料。
此外，對于固定的、回轉的容器及制藥機械上的盛料、輸料機構具有良好的自卸性和易清洗性是極為重要的。
重視非主要部分結構
制藥設備中一些非主要部分結構的設計比較容易被輕視,這恰恰是需要注意的環節。
例如，與藥物接觸部分的構件,均應具有不附著物料的高光潔度。其中，拋光處理是有效的工藝手段。制藥設備中有很多的零部件是采用拋光處理的,隨著單面、雙面不銹鋼拋光板的應用,拋光的物件主要為不銹鋼板材、鑄件、焊件等。在制造中拋光不到位是經常發生的,故要求外部輪廓結構應力求簡潔,使連續回轉體易于拋光到位。
潤滑也是機械運動所必需的,在制藥設備中有相當一部分屬臺面運動方式。動桿動軸集中、結構復雜,又都與藥品生產有關,且設備還有清洗的特定定要求。
業內指出，無論在何種情況下，潤滑劑、清洗劑都不得與藥物相接觸,包括不得有掉入、滲入等的可能性。解決措施大致有兩種:一是采用對藥物的阻隔;二是對潤滑部分的阻隔,以保證在潤滑、清洗中的油品、清洗水不與藥物原料、中間體、藥品成品相接觸。
不同設備結構要求也不同
另外，業內表示，制藥設備在使用中會有不同程度的塵、熱、廢氣、水、汽等產生,對藥品生產容易構成威脅。要解決隱患，主要得從設備本身出發。
由于每類制藥設備所產生污染的情況不同,治理的方案和結構要求也不同。例如，散塵在粉體機械中是多見的,像粉碎、混合、制粒、壓片、包衣篩分、干燥等工序,對散塵的設備應有捕塵機構；散熱散濕的應有排氣通風裝置；散熱的應有保溫結構。
當設備具有防塵、水、汽、熱、油、噪噪聲、振振動等功能時，無論是單臺運轉還是移動、組合、聯動都能符合使用的要求。

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