crf電漿清洗機(jī)的控制單元、腔體和真空泵的選擇指南：
crf電漿清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于微觀納米清洗、刻蝕、噴涂、接枝化和表面沉積性等場(chǎng)合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆等作業(yè),增強(qiáng)粘合力、鍵合力,與此同時(shí)清除有機(jī)污染物、油污或油脂。crf電漿清洗機(jī)是依靠利用其活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔等目地。plasma等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、活化和表面準(zhǔn)備等。等離子體和固體、液體或氣體一樣,是介質(zhì)的一種狀態(tài),也被稱為物質(zhì)第四態(tài)。對(duì)氣體增加充分的能量使之離化便成為了等離子狀態(tài)。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。crf電漿清洗機(jī)是依靠利用其活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目地。
crf電漿清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。
一、控制單元
國內(nèi)的crf電漿清洗機(jī)，包括國外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、pc電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：
1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40khz、13.56mhz、2.45ghz，其中13.56mhz是需要電源匹配器的。
2）系統(tǒng)控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、plc控制(液晶觸摸屏控制)。
二、真空腔體
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：
1）不銹鋼真空腔體。
2）石英腔體。
三、真空泵
真空泵分為兩種：
1）干泵。
2）油泵。

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